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電子芯片 詳細(xì)解讀LED芯片的制造工藝流程

顯示芯片制作工藝

顯示芯片制作工藝 顯示芯片的制造工藝與CPU一樣,也是用微米來衡量其加工精度的。制造工藝的提高,意味著顯示芯片的體積將更小、集成度更高,可以容納更多的晶體管,性能會更加強(qiáng)大,功耗也會降低。 和中央處理器一樣,顯示卡的核心芯片,也是在硅晶片上制成的。采用更高的制造工藝,對于顯示核心頻率和顯示卡集成度的提高都是至關(guān)重要的。而且重要的是制程工藝的提高可以有效的降低顯卡芯片的生產(chǎn)成本。目前的顯示芯片制造商中,啟和科技已全面采用了0.13微米的制造工藝,就是其FX5900顯示核心之所以能集成一億兩千五百萬個晶體管的根本原因。而ATI公司主要還是在使用0.15微米的制造工藝,比如其高端的鐳9800XT和鐳9800 Pro顯卡,部分產(chǎn)品采用更先進(jìn)的0.13微米制造工藝電子芯片,比如其鐳9600顯卡。 微電子技術(shù)的發(fā)展與進(jìn)步電子芯片,主要是靠工藝技術(shù)的不斷改進(jìn),使得器件的特征尺寸不斷縮小,從而集成度不斷提高,功耗降低,器件性能得到提高。顯示芯片制造工藝在1995年以后,從0.5微米、0.35微米、0.25微米、0.18微米、0.15微米、0.13微米、0.11微米一直發(fā)展到目前最新的90納米,而未來則會以80納米作為一個過渡,然后進(jìn)一步發(fā)展到65納米。總的說來,顯示芯片在制造工...

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