顧名思義，金屬膜電阻器是通過在陶瓷模架上沉積一層薄金屬而制成的。金屬膜的作用方式與電阻絲相同，并且由于可以精確地控制厚度，寬度和長度，因此可以高公差地制造金屬膜電阻器。

同樣，由于可以對金屬膜電阻器進行預時效處理并對其進行保護以確保其不會隨時間推移而退化，因此長期穩(wěn)定性良好。

如今，金屬膜電阻器是帶引線軸向電阻器的流行選擇，不同于貼片電阻，因此它們的使用量很大。

金屬膜電阻器的制造與制造

通過將金屬層真空沉積到高純度陶瓷圓柱棒上來制造金屬膜電阻器。通常，沉積的金屬膜越厚，電阻值越穩(wěn)定。通常使用50到250nm之間的薄膜厚度，因為該區(qū)域的材料厚度傾向于提供更高的長期穩(wěn)定性。可以使用多種不同的技術，但是更常見的是濺射。沉積的金屬通常是鎳鉻，NiCr，但是其他金屬（包括金和鉑或氮化鉭）也可以用于特殊應用。

沉積薄膜后，將金屬端蓋壓在沉積的金屬上。這使得與電阻膜接觸并結(jié)合了引線。

制造的下一個階段是將電阻值修整到所需的數(shù)字。通常，這是通過使用激光將螺旋切成金屬膜來實現(xiàn)的。這延長了金屬元件的長度，并且還減小了載流軌道的寬度，同時將沉積的材料厚度保持在用于長期穩(wěn)定性的*佳范圍內(nèi)。

激光微調(diào)的精度意味著可以將金屬膜電阻器制造成非常接近的公差。公差為0.1％精密金屬膜電阻，0.25％，0.5％以及1％和2％。1％和2％是廣泛使用的，考慮到它們的緊密公差，這使得電路可以在一個單元到另一個單元之間保持良好的可重復性。

金屬膜電阻器還保持良好的電阻溫度系數(shù)，通常在50至100 ppm /°K之間。

金屬膜電阻器制造的后階段是添加保護涂層和標記。通常精密金屬膜電阻，保護涂層由樹脂組成，該樹脂分幾層添加，然后分別烘烤。后，添加標記環(huán)以指示金屬膜電阻器的值和其他相關特性。

金屬膜電阻器的應用和用途

金屬膜引線電阻幾乎是當今使用的確定標準。成本，可靠性和緊密公差產(chǎn)品的可用性意味著它們幾乎普遍用于通用引線電阻器。

這些電阻器具有較高的容差以及良好的長期穩(wěn)定性和良好的電阻溫度系數(shù)，可以放心地將其用于大多數(shù)應用。

使用這些電阻時，優(yōu)良作法是在*大額定值以下操作它們。這是任何設計的標準程序，通常它們可能以*大額定值的*大50％到60％運行。

考慮到它們的尺寸和結(jié)構，金屬膜電阻器不適合可能出現(xiàn)電涌瞬變的應用。碳質(zhì)電阻器更適合，因為它們能夠更好地容忍瞬變。

另外，鑒于通過螺旋切割來修整電阻，這些電阻器可能會稍微感應。雖然嘿對大多數(shù)應用都有好處，但是它們的性能可能會受到影響，但是在微波區(qū)域使用時，由于螺旋切割而產(chǎn)生的電感會受到影響。但是，對于這些頻率，很可能在這些應用中使用表面貼裝電阻器。

金屬膜電阻器的另一個優(yōu)點是，由于其結(jié)構和技術的原因，它們會產(chǎn)生低水平的噪聲。

典型的金屬膜電阻器規(guī)格

下面給出了金屬膜電阻器的典型性能數(shù)據(jù)，作為性能指南。

如今，金屬膜電阻器是軸向引線電阻器廣泛使用的形式，幾乎已經(jīng)取代了其他類型，甚至是金屬氧化物膜電阻器。它們提供了比其他類型更好的性能和更低的成本，因此，除了某些特定的應用程序外，它們幾乎已被普遍采用。

文章由啟和科技編輯